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Medientyp: Buch Titel: Thin film chemical vapor deposition in electronics : equipment, methodology and thin film growth experience Beteiligte: Vasilyev, Vladislav Yu. [VerfasserIn] Erschienen: New York: Nova Science Publishers, 2014 Erschienen in: Material science and technologies Umfang: XV, 304 S.; Ill., graph. Darst Sprache: Englisch ISBN: 9781633211506 RVK-Notation: ZN 4174 : CVD Schlagwörter: Thin film devices ; Integrated circuits Design and construction ; Chemical vapor deposition Entstehung: Anmerkungen: Includes bibliographical references and index