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Medientyp: Buch Titel: Materials and processes for next generation lithography Beteiligte: Robinson, Alex [HerausgeberIn]; Lawson, Richard [HerausgeberIn] Erschienen: Amsterdam; Boston; Heidelberg; London; New York; Oxford; Paris; San Diego; San Francisco; Singapore; Sydney; Tokyo: Elsevier Inc., [2016] Erschienen in: Frontiers of nanoscience ; 11 Umfang: xxv, 608 Seiten; Illustrationen Sprache: Englisch ISBN: 9780081003541 RVK-Notation: ZN 4170 : Fotolithographie; Maskierung (Elektronenstrahllithographie; Röntgenstrahllithographie) Entstehung: Anmerkungen: Weitere Bestandsnachweise 0 : Frontiers of nanoscience