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Haag, Jana [VerfasserIn] ; Technische Universität Dresden

Plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) von siliziumoxidhaltigen Haftvermittlerschichten auf Ti15V3Cr3Sn3Al- und Ti6Al4V-Legierungen bei Atmosphärendruck = Plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) of organosilicon films for adhesion promotion on Ti15V3Cr3Sn3Al and Ti6Al4V alloys at atmospheric pressure

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  • Medientyp: Buch; Hochschulschrift
  • Titel: Plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) von siliziumoxidhaltigen Haftvermittlerschichten auf Ti15V3Cr3Sn3Al- und Ti6Al4V-Legierungen bei Atmosphärendruck
  • Paralleltitel: Plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) of organosilicon films for adhesion promotion on Ti15V3Cr3Sn3Al and Ti6Al4V alloys at atmospheric pressure
  • Beteiligte: Haag, Jana [VerfasserIn]
  • Körperschaft: Technische Universität Dresden
  • Erschienen: 2016
  • Umfang: 125 Seiten; Illustrationen, Diagramme
  • Sprache: Deutsch
  • RVK-Notation: UV 9250 : Verbundwerkstoffe, Glasfaserverstärkte Polyester, Kohlefaserverstärkte Polyester
  • Schlagwörter: Hochschulschrift
  • Entstehung:
  • Hochschulschrift: Dissertation, Technische Universität Dresden, 2016
  • Anmerkungen:

Exemplare

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Zentralbibliothek – Freihand

  • Status: Ausleihbar

Zentralbibliothek – Magazin

  • Signatur: 2017 4 002892
  • Barcode: 34123727
  • Status: Bestellen zur Benutzung im Haus, kein Versand per Fernleihe, nur Kopienlieferung