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Liu, Fang [VerfasserIn] ; Helm, Manfred [AkademischeR BetreuerIn]; Wendler, Elke [AkademischeR BetreuerIn] Technische Universität Dresden

Hyperdoping si with deep-level impurities by ion implantation and sub-second annealing

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Medientyp: Buch; Hochschulschrift
Titel: Hyperdoping si with deep-level impurities by ion implantation and sub-second annealing
Beteiligte: Liu, Fang [VerfasserIn]; Helm, Manfred [AkademischeR BetreuerIn]; Wendler, Elke [AkademischeR BetreuerIn]
Körperschaft: Technische Universität Dresden
Erschienen: Dresden: Technische Universität Dresden, [2018]
Umfang: viii, 91 Seiten; Illustrationen, Diagramme
Sprache: Englisch
RVK-Notation: UP 3250 : Dotierung, Strahleneinwirkung auf Halbleiter
Schlagwörter: Hochschulschrift
Entstehung:
Hochschulschrift: Dissertation, Technische Universität Dresden, 2018
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