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Medientyp: Buch; Hochschulschrift Titel: Multiscale simulation of metallic copper and copper oxide atomic layer deposition from Cu Beta-diketonates Weitere Titel: Abweichender Titel: Multiskalensimulation der Atomlagenabschscheidung von metallischem Kupfer und Kupferoxid aus Cu Beta-Diketonate Beteiligte: Hu, Xiao [VerfasserIn] Erschienen: Chemnitz: Universitätsverlag Chemnitz, 2018 Ausgabe: [1. Auflage] Umfang: 197 Seiten; Illustrationen; 21 cm Sprache: Deutsch; Englisch ISBN: 9783961000531; 3961000530 RVK-Notation: ZN 4150 : Dünnschichttechnologie ZN 4154 : Herstellungsverfahren Schlagwörter: Leiterbahn > Atomlagenabscheidung > Kupferoxide > Kupfer > Diketonate > Ausgangsmaterial > Oberflächenchemie > Mehrskalenanalyse > Simulation Atomlagenabscheidung > Oberflächenchemie > Leiterbahn > Mehrskalenanalyse > Kupferverbindungen Entstehung: Hochschulschrift: Dissertation, Technische Universität Chemnitz, 2017 Anmerkungen:
Bereichsbibliothek DrePunct – Magazin Signatur: 2018 8 019355 Barcode: 34154420 Status: Bestellen zur Benutzung im Haus, kein Versand per Fernleihe, nur Kopienlieferung > Bestellen möglich - bitte anmelden