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Medientyp: Buch; Hochschulschrift Titel: Herstellung ultra-dünner hoch-[epsilon]r Oxide und deren Verhalten unter dynamischen elektrischen Stressbedingungen Beteiligte: Knebel, Steve [VerfasserIn] Körperschaft: Technische Universität Dresden ; Logos Verlag Berlin Erschienen: Berlin: Logos Verlag, [2019] Erschienen in: NaMLab gGmbH: Research at NaMLab ; 6 Umfang: 165 Seiten; Illustrationen, Diagramme; 21 cm Sprache: Deutsch; Englisch ISBN: 9783832549947; 3832549943 RVK-Notation: ZN 4152 : Substrate, Materialien usw. ZN 4040 : Zuverlässigkeit elektronischer Bauelemente und Geräte Schlagwörter: Halbleiterspeicher > Zirkoniumdioxid > Hafniumdioxid > Dünne Schicht > Gate-Oxid > Dielektrische Schicht > Elektrischer Durchschlag > Dynamisches Verhalten > FRAM > Transistor Hafniumdioxid > Zirkoniumdioxid Entstehung: Hochschulschrift: Dissertation, Technische Universität Dresden, 2019 Anmerkungen: "r" im Titel tiefgestellt Kurzzusammenfassung auf Englisch Weitere Bestandsnachweise 0 : Research at NaMLab
Zentralbibliothek – Magazin Signatur: 2019 8 024086 Barcode: 33416949 Status: Ausleihbar, bitte bestellen > Bestellen möglich - bitte anmelden
Bereichsbibliothek DrePunct – Magazin Signatur: 2019 8 024089 Barcode: 33416951 Status: Bestellen zur Benutzung im Haus, kein Versand per Fernleihe, nur Kopienlieferung > Bestellen möglich - bitte anmelden